华诺加工精细金属掩模版 幅面350mm微孔网 超薄mask掩膜激光切割。加工材质 不锈钢、铜、镍、钼 加工精度 ± 15um，加工幅面 300*240mm
掩模版是器件或部分器件的物理表示。掩模版（mask）简称掩模，是光刻工艺不可缺少的部件。掩模上承载有设计图形，光线透过它，把设计图形透射在光刻胶上。掩模的性能直接决定了光刻工艺的质量。
硬掩模和掩膜板在半导体行业中起着非常重要的作用。硬掩模属于半导体的生产工艺，是用于在晶圆表面上形成各种微细结构的模板。掩膜板则是印刷电路板(PCB)行业中常用的制版工具。
硬掩模主要用于在晶圆上进行微影工艺。微影技术是*种将光线投射在晶圆表面的工艺，通过硬掩模的微细孔洞，在有光的区域使光线通过，使得化学反应发生在预定的区域，从而形成所需的微细结构。
掩膜板主要用于印刷电路板(PCB)制作中的光绘制工艺。在印刷电路板(PCB)制作过程中，我们需要对电路进行绘制并进行光刻、蚀刻等*系列工艺操作。掩膜板就是印制这些电路图案的模板。
在选择合适的模板时，需要考虑到其应用*域、制作工艺、设备和制作成本等方面。如果需要进行微影技术，就需要使用硬掩模；如果需要进行PCB电路板制作，则需要使用掩膜板。同时还需要考虑制作难度和成本方面，选择*适合自己实际需求的模板。
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